中芯国际7nm光刻机到货了

中芯国际也在自研光刻机?正式回应来了,和你想的一样吗?

起因看似是华为,但是实际上却是,因为国内科技发展速度太快,危及到了所谓的“霸权主义”,因此开始对我国各个科技产业进行打压。

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其中最为严重的就是半导体行业,也是因为此次的半导体领域打压力度,让我国正式认识到了我国半导体行业的弱势情况,因此在2020年制定了芯片产业链计划,要求在2025年时能够实现国产芯片的70%供给率。

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这个目标也是已经定下了,为了实现这个目标,国内各大科技企业纷纷开始了自己的动作,在芯片设计方面,华为开始了自己的动作,将国内EDA软件设计公司直接购买下,以此来实现未来芯片设计的优势,通过自行研发EDA实现未来芯片设计方面的自主权。

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此外在芯片设计方面,中兴、小米、华为、OPPO等公司已经实现了自主芯片架构的设计,一切都在向着好的方向进发。

而现在最大的问题是什么呢?就是在芯片制造上面,而在这个方面的突破牵扯领域较多,因此不是那么好突破的,其中芯片制造涉及到了代工、光刻、刻蚀、封测等等多个环节,因此芯片的制造也是整个芯片产业链中最为复杂的过程,不过当下芯片在代工等等方面的工艺也在不断的突破。

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其中在国内较为出名的则是中芯国际FinFET N+1工艺,根据中芯国际方面解释,N+1工艺主打的就是低功耗,也是通过这个技术中芯国际方面已经可以开始向着7nm方面进发。

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在芯片刻蚀方面,中微半导体公司更是早早就已经实现了对于5nm芯片的刻蚀,并且这个技术现在也被台积电方面采用,如今更是先别人一步开始了对于更多精度芯片的刻蚀技术研发,芯片封测方面更是不用多说,已经走在了行业顶端。

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可以说在芯片制造方面的技术都在不断地进行突破,可现在最大的问题仍旧存在于光刻机上,此前由于光刻机供应链的全球化,大家都没有想到这个问题的重要性,导致到现在,生产光刻机的厂商仍旧只有荷兰的ASML公司。

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就是这个情况限制了我国现在高端芯片的突破。

就目前国内来说,有能力研制光刻机的厂商只有一家,那就是上海微电子,但是目前来看,上海微电子的光刻机技术仍旧是停留在了28nm阶段,短期内仍旧没有办法解决高端光刻机的问题。

在这种情况下,现在突然传来了一个消息,也因为这个消息引起了大家的热议,消息显示,中芯国际也有光刻机。

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可在大家的印象中,其实中芯国际就是一个芯片代工厂,与光刻机来说,这完全是两码事,对于这个疑问是怎么来的呢?源于8月12日,投资者向中芯国际的发问“公司生产芯片,公司有自己的光刻机吗?

对此,中芯国际在8月13日也正式回应了,中芯国际方面宣称:中芯国际是集成电路的代工企业,对于光刻机方面,由公司在外面采购而来。

结语:

想来也是,中芯国际的本业就是代工,怎么可能在这个大环境下,分心去研发光刻机呢?并且光刻机的研发也不是那么容易的,短期回报率简直不成正比,对此你怎么看呢?

原创文章作者:李小白,如若转载,请注明来自百香果号:https://www.huangjinbaixiangguo.com/article/15744.html

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